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离子注入、离子注入机、离子源、表面处理
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多弧离子镀辅助沉积MT3-PA多弧离子镀辅助沉积MT3-PA
多弧离子镀是采用电弧放电的方式在基材表面沉积成为薄膜。而离子源能够活化沉积粒子,减少薄膜缺陷,提高薄膜附着力。
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磁控溅射辅助沉积MT3-PM磁控溅射辅助沉积MT3-PM
普通表面镀膜均存在膜层脱落的问题,采用离子注入符合镀膜技术可以极大提高膜层与基体的结合力,从而完美解决该问题。
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